[반도체] 8대공정 면접준비_Thin Film(Deposition) 공정

◆ 8대공정 - Thin Film(Deposition) 공정 ＊ Thin Film 공정을 설명하시오. ① Wafer 위에 원하는 분자 또는 원자 단위의 물질을 박막의 형태로, 목표하는 특성을 갖게 하는 공정을 말합니다. ② 화학적 기상 증착 방식인 CVD 공정과 물리적 기상 증착 방식인 PVD 공정으로 분류할 수 있습니다. CVD는 가스의 양 조절을 통해 두께 조절이 용이하며, Uniformity가 상대적으로 좋지만, 화학반응 후 부산물이 발생하기 때문에 박막의 순도, 오염 측면에서 불리합니다. PVD는 대부분 금속물질의 증착에 많이 이용하며 Sputtering 방식과 Evaporation 방식이 있습니다. ③ 증착 능력을 평가하는 척도로는 Quality, Uniformity, Step Coverage ..
반도체 2023. 10. 3. 11:00
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